深圳市蓝星宇电子科技有限公司

蓝星宇协同日本SEN特殊光源集团致力于LCD,PCB,OLED,PDP,IC,光学,水处理,医疗等行业特殊光源研发,生产与销售,我司是日本SEN特殊光源集团中国授权代理, 全面负责SEN UV光源/设备,配件及其光测量仪等在中国市场的销售与服务。业务范围已遍及全国各地(含HK), 在香港, 深圳已设立公司, 华东及华北分公司正在规化中。光源产品已获得国内外众多高科技公司及世界500强企业采用。               日本SEN公司创建于1966年, 已有40余年专业历史, 是UV领域专家。其品质，高性价比的各类UV产品，在LCD,PCB,OLED,PCB,IC,光学品,水处理等行业享有很高的声誉。                                      “以人为本，感恩共赢”是我们的经营理念，同时我们凭着稳定的品质，准时的交期，合适的价格，的服务以及强有力的市场开拓，赢得了越来越多的客户,同时使得我司有幸与SEN，ORC等世界各地生产厂商不断加强良好的合作关系。               一.主营产品Product Catalog: A.特殊光源-UV灯/曝光灯Specialty Lamp             紫外光清洗灯, UV固化灯, 曝光灯, 点光源灯, 杀菌消毒灯, 医疗灯,金卤灯, 臭氧灯, 晒版灯, 卤钨灯, 红外线灯, 特殊荧光灯等。 B.光源设备Lights Equipments                  紫外光清洗机, UV固化机, 点光源机, 曝光机, 晒版机，水净化机,环境/医疗杀菌消毒装置，光化学反应装置等。 C.UV仪器/耗材/配件   UV能量表, UV照度计, UV光谱计, 麦拉, 水套, 离子罐, 曝光尺, 真空泵等。   D. 德国DIENER等离子清洗机, 德国OPTOSOL太阳能仪器   二.客户分布Application Fields：             液晶，OLED，电路板，IC半导体，医疗，电子器件，塑胶，涂料, 印刷包装，环境科学,镜头,光纤/光盘/光头, 制鞋，木业，化工，饮料，水处理等。      三.合作伙伴Partner: SEN,DIENER,OPTOSOL,ORC,USHIO,AMBA,YUMEX,OSRAM,PHILIPS,EYE,HAMAMATSU,C,SUN,NAIS,PRIMARC,APHA-CURE,THEIMER,TOSHIBA,MORITEX,LESCO,DYMAX,HOYA-SCHOT,FUJI,LUXTEL,HITACHI,NIKON,GE,BLV…                       紫外线UV光清洗灯SEN全系列灯管型号:1.冷阴极低压汞灯SP SL系列,低能低压汞灯UVL系列,标准低压汞灯SUV系列,高能/超高能低压汞灯EUV系列; 2.高压汞灯HL系列;3.金卤灯ML系列; 4.臭氧灯SL系列.   SEN全系列灯管型号(All Types of Lamp Model)    
1.低压汞灯low-pressure mercury lamp     A. 冷阴极灯Cold-cathode Lamp    
SP3-2, SP5-2, SP6-2, SL5DH, SL5UH, SL10UH2...         
  B.低能低压汞灯Low-power low-pressure mercury lamp 
UVL6D, UVL6UH2, UVL8D, UVL10D, UVL15D, UVL20D, UVL20U, UVL20P…
  C.标准低压汞灯Standard low-pressure mercury lamp 
SUV40D, SUV40U, SUV40G, SUV70D, SUV90D, SUV90U, SUV90US-43, MSW-90,
SUV110D, SUV110W, SUV110G, SUV110P, SUV110NS-10, SUV200US-41, 
SUV90US-40, SUV110US, SUV110GS-36, SUV200WS-18, SUV90US-43, MSW-90…
  D. 高能/超高能低压汞灯High-power/ultra-high power low-pressure mercury lamp
EUV200D, EUV200U, EUV200N, EUV200W, EUV200P, EUV250D, EUV250N, EUV250N
EUV250W, EUV300D, EUV300U,EUV300N, EUV300W, EUV400D, EUV400U, EUV400N  
EUV400W, FUV400U, EUV200DS-45, EUV200US-55, EUV200US-77…
  2.高压汞灯High-pressure Mercury Lamp   
HL100C, HL100G, HL100Q, HL400B, HL400J, HL400D, HL450B, HL450J, HL1000D,
HL1000J, HL1000W, HL2000D, HL2000J, HL4000D, HL5600D 
  3. 金卤灯Metal Hydride Lamp    
ML1500DH, ML3000DH    
  4.臭氧灯Ozone Lamp     SL5DH, SL10UH        一、紫外光清洗的工作原理：
      光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度"。
      更详细的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力,吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。
二、光清洗的特点light clean feature：
1、可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。                  
2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。
3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。
4、保证产品的高可靠性和高成品率。
5、产品表面清洗处理的均匀度一致。
6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。
  三、光清洗的技术应用范围：
    主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法为合适。
    主要材料：Ito玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
    可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。
    此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点，目前在液晶显示器STN的生产过程中，主要是用在膜处理技术上，对于改善膜与膜之间的密接是有效的，如ITO膜与感光胶膜层，TOP涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品，用于纳米技术研究，产品经此UV光照射发生化学反应，使产品表面性质改变。STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中，有些制程设备相当雷同，差别在于制造工艺要求的不同。