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公司现有从事真空镀膜研究的专家及技术人才20余人,其中教授2人、博士后2人、博士2人、硕士3人,高级工程师10余人。 高技术的人才,铸就高品质的产品。
公司在真空镀膜技术、蒸发镀膜技术、磁控溅射镀膜技术、多弧离子镀膜技术、射频、中频溅射镀膜技术、等离子体扩渗技术、离子注入技术、低温改性处理技术等领域、运用达到国内外先进水平,并先后成功研制和生产了蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、多弧离子镀膜机、中频磁控溅射反应镀膜机、射频磁控溅射镀膜机、离子注入机、低温改性处理装置以及真空镀膜专用电源。并为用户提供材料表面处理设计方案以及企业新旧设备的技术改造和技术培训服务。
公司拥有多项国家专利技术:
大平面多弧离子镀膜机核心技术矩形平面多弧靶,专利号为03249251.0;
加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机,专利号为200420032576.8;
其中旋转磁控溅射镀膜技术,旋转磁控多弧离子镀膜技术达到国际先进水平。
公司地址:成都市武侯区双楠小区龙门巷50号 邮编:610091
公司厂址:成都市武侯科技园双星大道北一段
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